La fotolitografia utilizza tre fasi del processo di base per trasferire un motivo da una maschera a un wafer: ricoprire, sviluppare, esporre. Il motivo viene trasferito nello strato superficiale del wafer durante un processo successivo. In alcuni casi, il modello di resist può essere utilizzato anche per definire il modello per un film sottile depositato.
Cos'è la fotolitografia Come funziona?
La fotolitografia è un processo di modellazione in cui un polimero fotosensibile viene esposto selettivamente alla luce attraverso una maschera, lasciando un'immagine latente nel polimero che può quindi essere disciolta selettivamente per fornire accesso a un substrato sottostante.
Perché si usa la fotolitografia?
La fotolitografia è uno dei metodi più importanti e semplici di microfabbricazione, ed è usata per creare modelli dettagliati in un materiale. In questo metodo, è possibile incidere una forma o un motivo mediante l'esposizione selettiva di un polimero sensibile alla luce alla luce ultravioletta.
Perché la luce UV viene utilizzata nella fotolitografia?
La fotolitografia consente l'incapsulamento 3D di cellule all'interno di idrogel reticolando il prepolimero contenente le cellule sotto la luce UV. Viene utilizzata una fotomaschera per ottenere il motivo desiderato [88].
Quali sono i requisiti per la fotolitografia?
In generale, un processo di fotolitografia richiede tre materiali di base, sorgente luminosa, maschera fotografica e fotoresist. Photoresist, un materiale fotosensibile,ha due tipi, positivo e negativo. Il fotoresist positivo diventa più solubile dopo l'esposizione a una fonte di luce.
Photolithography: Step by step
